セミコン ジャパン２０１５ご来場のお礼
2015/12/19
弊社は2015年12月16日（水）～12月18日（金）に東京ビッグサイトで開催されました『セミコン ジャパン(SEMICON JAPAN) 2015』に出展致しました。弊社ブースでは、低温酸化膜応用技術、固相拡散技術、AlOx膜成膜技術など各種成膜技術のご紹介及びSiO2膜を成膜したSi基板、GaN基板、SiC基板などを展示し、多くのお客様にご覧頂きました。
ご多用中のところ会場にお越し頂きましたお客様には厚くお礼申し上げます。
今後もより良い製品及びサービスのご提供に努めて参りますので、ご愛顧のほど宜しくお願い申し上げます。
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