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製品情報

フレキシブルな小規模生産、開発用常圧CVD装置

D501

  • 大型トレーに複数枚ウェハを装填するバッチ式常圧CVD装置
  • さまざまな膜種(SiO2, Al2O3, etc)対応可能

特徴

  • 大型トレーに複数枚ウェハを装填し、トレーがディスパージョンヘッド下を往復し成膜するバッチ式の常圧CVD装置です。
  • 異形基板及びさまざまな膜種(SiO2, Al2O3, Poly-Si, SiN, TiOx, etc)に対応可能です。
  • コンパクトな装置サイズで、フットプリントを小さくしてあります。

性能

膜厚均一性 膜種・膜厚による
対応ウェハサイズ 加熱可能ゾーンに準じる
ガス種 SiH4, O2, PH3, B2H6,N2(TEOS, TEB, TMOP, O3, TMAはオプション)
成膜温度 350℃~450℃
生産性 -

主な仕様

装置サイズ 1200㎜(W) x 2480㎜(D) x 1940㎜(H)
加熱機構 抵抗加熱
ロード・アンロード マニュアル方式
ディスパージョンヘッド(ガスノズル) A63ヘッド

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TEL:048-989-1881(代表)

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